中子是构成物质原子核的基本粒子之一,它的质量与质子相同。中子辐射通常是用人工的方法从原子核中释放出来的。中子辐射由自由中子所组成,可由自发或感应产生的核裂变,核聚变或其他核反应产生。中子非电离辐射不会电离原子,但可与不同元素之原子核撞击,进行"中子激发",产生不稳定同位素,使物质具放射性。中子进入原子核内引起核子反应(中子核反应neutron induced nuclear reaction),会释放大量的高能中子,高能中子具有杀伤力。
对块中子的屏蔽,是用钨合金材料,钨合金是高密度金属材料,密度越高对中子的屏蔽效果越好,因此10cm厚度的钨合金材料对中子的屏蔽可达93%,足见其效果显著,是中子屏蔽材料的最佳选择。中子钨辐射屏蔽件作为中子辐射的屏蔽材料可在选择性肿瘤放射,核工业,空间和航空航天工业,以及高可靠性爆炸物工业中应用。
钨合金是用来做中子钨辐射屏蔽件的最佳材料。与传统屏蔽材料铅相比,钨合金屏蔽件体现了很好的价值。铅块是较早用于屏蔽件领域的金属材料,但是在使用过程中发现,铅制作的屏蔽件的屏蔽辐射能力不够高,还会对环境造成严重的污染。钨屏蔽的辐射屏蔽件能力是的铅屏蔽件的两倍。钨屏蔽件的重量比铅少25%至50%,同时铅为有毒材料而钨合金屏蔽件材料是无毒的,使用钨合金屏蔽材料对人体及环境不会造成危害。
进行屏蔽设计时,可根据要求屏蔽层达到的总的减弱倍数计算屏蔽材料的厚度。
公式:K=e0.693 d / △1/2
K:屏蔽层的总减弱倍数
△ 1/2:该屏蔽材料的半值层值
d:屏蔽层厚度,其单位同半值层厚度,需要将半值层的质量厚度换算成材料的厚度时,再除以材料的密度即可得到。
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